သတင်းများ

Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power ပုံစံများနှင့် ဝိသေသလက္ခဏာများ အဖြစ်များသော ပုံစံများ

square wave pulse သည် pulsed electroplating current ၏ အခြေခံအကျဆုံးပုံစံဖြစ်ပြီး ယေဘုယျအားဖြင့် single pulse အဖြစ်ရည်ညွှန်းသည်။ single pulse များမှဆင်းသက်လာသော အခြားအသုံးများသောပုံစံများတွင် direct current superimposed pulses၊ periodic reversing pulses၊ intermittent pulses နှင့် အခြားတို့ပါဝင်သည်။

၎င်းတို့ထဲတွင် unidirectional pulses များနှင့်သက်ဆိုင်သော single pulses၊ direct current superimposed pulses နှင့် intermittent pulses များရှိသည်။ Unidirectional pulses များသည် အချိန်နှင့်အမျှ လျှပ်စီးကြောင်း ဦးတည်ချက် မပြောင်းလဲသော pulse waveforms များကို ရည်ညွှန်းပြီး periodic reversing pulses များသည် reverse anode pulses များပါရှိသော bidirectional pulses များပုံစံဖြစ်သည်။

၁။ တစ်ခုတည်းသော ပဲ့တင်ထပ်မှု

တစ်ခုတည်းသော pulse ပါဝါအရင်းအမြစ်သည် ပုံမှန်အားဖြင့် ပုံသေ unidirectional pulse current ကို ထုတ်လွှတ်ပေးသည်။ pulse parameters များကို ပြောင်းလဲရန်အတွက် စနစ်ကို ရပ်တန့်ပြီး ပြန်လည် configure လုပ်ရန် လိုအပ်သည်။

၂။ နှစ်ထပ် ပဲ့တင်သံ

Dual pulse ပါဝါအရင်းအမြစ်များသည် ယေဘုယျအားဖြင့် ပုံသေ ပုံမှန်ပြောင်းပြန်လှန်သည့် pulse လျှပ်စီးကြောင်းကို ထုတ်လွှတ်ပေးသည်။ pulse parameters များကို ပြောင်းလဲရန်အတွက် စနစ်ကို ရပ်တန့်ပြီး အစကတည်းက ပြန်လည်ပြင်ဆင်သတ်မှတ်ရန် လိုအပ်သည်။

၃။ မာလ်တီ-ပဲ့လ်စ်

multi-pulse ပါဝါအရင်းအမြစ် သို့မဟုတ် intelligent multi-group periodic reversing pulse electroplating ပါဝါအရင်းအမြစ်ဟုလည်း လူသိများသော multi-pulse ပါဝါအရင်းအမြစ်သည် pulse width၊ frequency၊ amplitude နှင့် reversing time အပါအဝင် မတူညီသော parameter များပါရှိသော unidirectional သို့မဟုတ် periodic reversing pulse current အစုံများစွာကို cyclically output ထုတ်ပေးနိုင်ပါတယ်။ မတူညီသော parameter များပါရှိသော pulse current များကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် မတူညီသောဖွဲ့စည်းပုံများ သို့မဟုတ် ပေါင်းစပ်မှုများပါရှိသော electroplated coatings များကို ရရှိနိုင်ပြီး မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော nanometer-level metal multilayer coatings များကို ရရှိနိုင်မည်ဖြစ်သည်။ SOYI intelligent pulse electroplating ပါဝါအရင်းအမြစ်သည် nanoscale electroplating နည်းစနစ်များ၏ သုတေသနနှင့် ထုတ်လုပ်မှုအတွက် ခိုင်မာသောပံ့ပိုးမှုကို ပေးစွမ်းသည်။

ဤကွဲပြားသော pulse power ပုံစံများကို electroplating လုပ်ငန်းတွင် ကျယ်ပြန့်စွာ အသုံးချနိုင်ပါသည်။ သင့်လျော်သောပုံစံရွေးချယ်မှုသည် လိုချင်သော electroplating အကျိုးသက်ရောက်မှုများရရှိရန် သီးခြား electroplating လိုအပ်ချက်များနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်သတ်မှတ်ချက်များပေါ်တွင် မူတည်ပါသည်။

Xingtongli GKDM60-360 Dual Pulse Rectifier

အင်္ဂါရပ်များ:

၁။ AC Input 380V သုံးဆင့်
၂။ အထွက်ဗို့အား: ၀ ± ၆၀ ဗို့၊ ± ၀-၃၆၀ အေ
၃။ သွေးကြောစီးကူးချိန်: 0.01ms-1ms
၄။ ပဲ့တင်သံပိတ်ချိန်:0.01ms-10s
၅။ အထွက်ကြိမ်နှုန်း: ၀-၂၅Khz
၆။ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်ထိန်းချုပ်မှုနှင့် RS485 ဖြင့်

အပြုသဘောနှင့် အနုတ်လက္ခဏာ pulse power output ၏ waveform diagram:

Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power ပုံစံများနှင့် ဝိသေသလက္ခဏာများ အသုံးများသောပုံစံများ (1)
Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power ပုံစံများနှင့် ဝိသေသလက္ခဏာများ အသုံးများသောပုံစံများ (2)

ထုတ်ကုန်ပုံများ

Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power Forms (1)
Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power Forms (၂) ခု
Xingtongli GKDM60-360CVC Dual Pulse Power Forms (3) ခု

အသုံးချမှုများ:

ဂဟေဆက်ခြင်း- Dual Pulse Power Supplies များကို ဂဟေဆက်ခြင်းဆိုင်ရာ အသုံးချမှုများတွင် အထူးသဖြင့် တိကျသော ဂဟေဆက်ခြင်းလုပ်ငန်းများအတွက် အသုံးများသည်။ ၎င်းတို့သည် ဂဟေဆက်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို တိကျစွာ ထိန်းချုပ်ပေးပြီး ခိုင်မာပြီး သန့်ရှင်းသော ဂဟေဆက်မှုများ ရရှိစေရန် ကူညီပေးသည်။

လျှပ်စစ်ဓာတ်ဖြင့် ಲೇಪခြင်း- လျှပ်စစ်ဓာတ်ဖြင့် ಲೇಪခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် Dual Pulse Power Supplies သည် မျက်နှာပြင်များပေါ်တွင် သတ္တုများ စုပုံခြင်းကို တိကျစွာ ထိန်းချုပ်ရန် ကူညီပေးပြီး အရည်အသွေး တသမတ်တည်းနှင့် တစ်ပြေးညီ အပေါ်ယံလွှာများကို သေချာစေသည်။


ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၃ ခုနှစ်၊ စက်တင်ဘာလ ၈ ရက်